末日这种事当然是要上报啦 第61节

　　他必须要亲眼看看才肯安心。

　　终于，他在一扇巨大的金属门前停下。

　　门没有完全关闭，留着一道缝隙。

　　门后，是一个他从未想象过的巨大无比的超净间！

　　汉斯屏住呼吸，小心翼翼地透过门缝向内望去。

　　超净间内部灯火通明，空间极其广阔，远超他见过的任何工业级超净间。

　　里面忙碌的技术人员数量众多，动作专业而高效。

　　各种他只在概念图中见过的尖端设备井然有序地运行着。

　　整个环境弥漫着一种高度紧张又极度精密的氛围。

　　但最吸引他目光的，是超净间最中央，那台被众多辅助设备环绕的庞然大物。

　　一台巨大的光刻机！

　　汉斯第一眼没认出它的型号，那主体框架看起来像是用海天微电子自产的SSA600/20。

　　一台在他眼中落后不堪的DUV光刻机改装的，但体积和复杂程度远超原型。

　　他本能地流露出一丝轻蔑：

　　哼，一台破旧DUV的改装品，也值得如此大动干戈？

　　但，就在下一秒，他的目光凝固了！

　　几名工程师正在小心翼翼地拆卸那台改装光刻机外壳的一部分。

　　随着一块厚重的金属板被移开，露出了内部一个结构极其精密，设计前所未见的装置！

第61章 PCT专员

　　光源系统！

　　汉斯的心脏像是被一只手狠狠攥住！

　　他虽然无法看清全貌，但那暴露出的部分结构他还是认出了一些。

　　可虽然认出来了，却还是陌生。

　　那独特的能量耦合接口。

　　非传统的冷却回路设计。

　　以及某种他从未在任何文献或产品中见过的光束整形组件。

　　每一处都散发着一种超越现有科技水平，令人心悸的气息！

　　其复杂程度和集成度，远不是ASML引以为傲的EUV光源可比！

　　这……这是什么？！

　　就在他震惊得几乎无法思考时，他马上看到了站在那台改装光刻机控制台前的一群人。

　　魏天华和陈进一果然在这里！

　　他们身边还站着一位神情专注、头发有些凌乱的中年工程师（严正行）。

　　但让汉斯瞳孔骤然收缩的，是站在魏天华他们对面的那个人！

　　那人穿着一身笔挺的西装，气质儒雅，手里拿着一个平板电脑，正指着屏幕上的数据与魏天华等人热情交流。

　　汉斯认得这张脸！

　　他是国际专利合作条约（PCT）组织的高级专利审查官，戴维·诺顿！

　　一个专门负责审查全球范围内最尖端，最具商业潜力技术专利的权威人物！

　　PCT的审查官？！

　　他为什么会在这里？！

　　在这个被军方严密守护的核心实验室里？！

　　一股冰冷的寒意瞬间从汉斯的脚底窜上头顶！

　　他猛地意识到，魏天华刚才那个神秘电话里的“诺顿先生”是谁！

　　那个“令人惊叹”、“价值极高”的专利审查……

　　指的莫非就是眼前这台古怪光刻机里，那个前所未见的光源系统！

　　汉斯的心脏狂跳，几乎要冲破胸膛。

　　他贪婪地透过那道宝贵的观察窗缝隙向内窥视，目光死死锁定在超净间内部。

　　那台被改装的SSA600/20光刻机并未停止工作！

　　它正发出低沉而稳定的嗡鸣，机械臂流畅地运送着晶圆。

　　而在光刻机周围，除了海微的工程师，还有好几位佩戴着PCT徽章的工作人员！

　　他们手持平板或专业记录设备，围着那台暴露了部分内部结构的光刻机，脸上无一例外地写满了惊叹和难以置信！

　　他们正与海微的工程师们热烈地交流着，手指不断指向那奇特的光源结构和机器运行的实时数据。

　　神情激动，如同发现了新大陆的探险家。

　　PCT专员！

　　不止一个！

　　他们在现场审查！

　　就在这机器运行时！

　　汉斯感觉自己快要窒息了。

　　他必须看得更清楚！

　　特别是控制台的数据！

　　那才是关键！

　　他像着了魔一样，沿着观察窗的墙壁急切地寻找着更好的角度。

　　突然，他发现侧前方一个用于设备维护的狭窄通道似乎无人看守。

　　尽头似乎有一个更靠近中心控制台的观察口！

　　机会！

　　他顾不得许多，像做贼一样，弓着身子，快速地溜进了那条通道。

　　幸运的是，通道尽头果然有一个稍大的观察窗口，角度正对着中心控制台！

　　汉斯几乎是扑了上去，整张脸紧紧贴在冰冷的观察窗玻璃上。

　　眼睛瞪得溜圆，死死盯住控制台上方那块巨大的主屏幕！

　　屏幕上，瀑布般的数据流飞速刷新。

　　汉斯的目光像雷达一样扫过那些参数：

　　光源波长：13.42 nm (稳定)

　　光源输出功率：XXX kW

　　光源转化效率：31.8%(实时)

　　能量密度：XXX mJ/cm?

　　稳定性指标：< 0.005%(波动)

　　曝光晶圆累计：第XXX片(持续运行)

　　实测线宽：7.3 nm (套刻精度< 2.0 nm)

　　“我的上帝啊！”

　　一生无法抑制的惊呼，猛地从汉斯喉咙里爆发出来！

　　他完全忘记了身处何地！

　　他用力揉搓着自己的眼睛，仿佛屏幕上的数据是恶魔制造的幻象！

　　他再看！

　　再看！

　　那恐怖的转化效率！

　　那稳定的13.5纳米以下波长！

　　那足以支撑7纳米量产的实测线宽！

　　这些数据每一项都像一记重锤，狠狠砸在他作为ASML技术总监的骄傲和认知上！

　　这怎么可能？！

　　这完全颠覆了现有光刻技术的物理和工程极限！

　　而且这也不是他们ASML的EUV技术路线！

　　这是……这是全新的、划时代的、足以彻底埋葬现有光刻体系的怪物！

　　他像一尊石化的雕像，眼神呆滞，嘴巴无意识地张开，大脑一片空白……

　　只剩下屏幕上那冰冷而恐怖的数据在疯狂旋转！

　　他亲眼看着那台机器流畅地运作，看着那束他无法理解的光源系统稳定地输出着毁灭性的能量！

　　就在这一分一秒的过程中，这位技术主管心中，只留下了敬畏与震撼。

　　可随之而来的，便是深深的恐惧。

　　他仿佛看到了ASML帝国大厦的根基，正在这遥远东方的实验室里，被这台简陋外壳包裹的怪物，一寸寸地瓦解！

　　这声失态的惊呼，在安静的核心区域如同平地惊雷！

　　超净间内，所有交谈瞬间停止！